深圳求购二手真空镀膜机、二手磁控溅射镀膜机回收价格

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薄膜均匀性概念

1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也是1/10波长作为单位,约为100a),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也是说要实现10a甚至1a的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2、化学组分上的均匀性: 是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,sitio3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是sitio3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。

3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的---问题。

真空镀膜主要指一类需bai要在较高真空度下进du行的镀膜,具体包括很多种类,包zhi括真空离子蒸发,磁控溅射,daombe分子束外延,pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
典型的真空镀膜,包括了录像带,数据磁带dat,以及很多电极的制作过程。
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