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薄膜均匀性概念
1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也是1/10波长作为单位,约为100a),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也是说要实现10a甚至1a的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2、化学组分上的均匀性: 是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,sitio3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是sitio3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的---问题。
真空镀膜主要指一类需bai要在较高真空度下进du行的镀膜,具体包括很多种类,包zhi括真空离子蒸发,磁控溅射,daombe分子束外延,pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
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